Herstellung von Röntgenmasken in einem Zweistufenprozess mit dem Photoresist CAR 44
Konferenz: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2007
15.10.2007 - 17.10.2007 in Dresden
Tagungsband: MikroSystemTechnik
Seiten: 3Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Schirmer, Matthias (Allresist GmbH, Strausberg, Deutschland)
Inhalt:
In dieser Veröffentlichung wird die hochpräzise Herstellung von Röntgenmasken mit Hilfe des CAR 44 vorgestellt. In einem Zwei-Stufen-Prozess wird zuerst mittels UV-Lithographie eine 7-µm-dicke Resistmaske erzeugt. Die anschließende Goldgalvanik stellt die Röntgen-Master-Maske fertig. In einem zweiten Schritt wird diese Struktur mit der Master-Maske durch Synchrotron-Strahlung in eine 30-µm-dicke CAR-44-Schicht übertragen. Die Arbeitsmaske wird durch eine Goldgalvanik und das folgende Removing fertig gestellt.