Herstellung von Röntgenmasken in einem Zweistufenprozess mit dem Photoresist CAR 44
Konferenz: Technologien und Werkstoffe der Mikro- und Nanosystemtechnik - 1. GMM-Workshop
07.05.2007 - 08.05.2007 in Karlsruhe
Tagungsband: Technologien und Werkstoffe der Mikro- und Nanosystemtechnik
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Schirmer, Matthias (Allresist GmbH, Strausberg, Deutschland)
Inhalt:
In diesem Beitrag werden Ergebnisse des neu entwickelten Negativresist CAR 44 an dem Beispiel einer zweistufigen Röntgenmasken-Herstellung vorgestellt. Der CAR 44 verfügt über ähnliche Eigenschaften wie der SU-8, besitzt jedoch darüber hinaus für viele Anwendungen bedeutende Vorteile. Hervorzuheben ist vor allem die leichte Entfernbarkeit der vernetzten Strukturen. Damit eröffnen sich neue Möglichkeiten in der Mikrosystemtechnik.