Effiziente Plasmastrukturierung komplexer Gläser mit polymeren Resistmasken durch statistische Versuchsplanung

Konferenz: MikroSystemTechnik Kongress 2021 - Kongress
08.11.2021 - 10.11.2021 in Stuttgart-Ludwigsburg, Deutschland

Tagungsband: MikroSystemTechnik Kongress 2021

Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF

Autoren:
Weigel, Christoph; Phi, Hai Binh; Akkad, Mohammad; Strehle, Steffen (Technische Universität Ilmenau, Institut für Mikro- und Nanotechnologien MacroNano®, Fachgebiet Mikrosystemtechnik, Ilmenau, Deutschland)

Inhalt:
Maßgeschneidete Eigenschaften von Gläsern lassen sich über deren Zusammensetzung und Glasstruktur in weiten Bereichen einstellen. Das stellt hohe Anforderungen an die Strukturierung und die Maskierung. Für das Tiefenätzen werden dabei hauptsächlich Plasmaätzprozesse mit einem hohen physikalischen Anteil in Kombination mit zeit- und kostenaufwändig herzustellenden Hartmasken angewandt. Prozesse mit polymeren Masken erreichen bislang eine geringe Selektivität im stark exothermen Ätzprozess. Mittels statistischer Versuchsplanung wird der Einfluss von Plasmaätzparametern in Kombination von kostengünstig herzustellenden Masken aus Dicklack auf die Parameter Ätzrate, Oberflächenrauheit, Selektivität und Flankenwinkel untersucht. In ersten linearen Modellgleichen können bereits Haupteinflussparameter identifiziert werden. Zukünftig sollen mit Hilfe weiterer Versuche Nichtlinearitäten und weitere Einflussparameter in die Modelle integriert werden.