Einfluss von Substrattemperatur und Bias-Spannung auf die Eigenschaften von gesputterten AlN Dünnfilmen für BAWs
Konferenz: MikroSystemTechnik 2019 - Kongress
28.10.2019 - 30.10.2019 in Berlin, Deutschland
Tagungsband: MikroSystemTechnik 2019
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Schneider, Michael; Weißenbach, Josef; Schmid, Ulrich (Institut für Sensor- und Aktuatorsysteme, TU Wien, Gußhausstr. 27-29, Vienna, Austria)
Inhalt:
In dieser Arbeit wurde der Einfluss der Substrattemperatur und der Biasspannung während der reaktiven Sputterabscheidung auf die Eigenschaften von Aluminiumnitrid-Dünnfilmen für Anwendungen in BAW Bauelementen untersucht. Wir zeigen, dass höhere Substrattemperaturen von bis zu 400 °C zu Dünnschichten mit verbesserten kristallografischen Eigenschaften und glatteren Oberflächen führen. Darüber hinaus ermöglicht das Anlegen erhöhter Biasspannungen während der Abscheidung den Schichtstress über einen weiten Bereich anzupassen.