Dosierplattform zur Deposition von photoaktiven Fluiden für Anwendungen in der Photonik

Konferenz: MikroSystemTechnik 2015 - MikroSystemTechnik Kongress 2015
26.10.2015 - 28.10.2015 in Karlsruhe, Deutschland

Tagungsband: MikroSystemTechnik 2015

Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF

Persönliche VDE-Mitglieder erhalten auf diesen Artikel 10% Rabatt

Autoren:
Hofmann, A.; Ungerer, M.; Bretthauer, G. (Institut für Angewandte Informatik (IAI), Karlsruher Institut für Technologie, Kaiserstr. 12, 76131 Karlsruhe, Deutschland)
Kröger, M. (Institut für Angewandte Informatik (IAI) und Institut für Photonik und Quantenelektronik (IPQ), Karlsruher Institut für Technologie, Kaiserstr. 12, 76131 Karlsruhe, Deutschland)
Wondimu, S. F.; Kohler, D.; Dietrich, P.-I.; Wienhold, T.; Koos, C. (Institut für Photonik und Quantenelektronik (IPQ) und Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie, Kaiserstr. 12, 76131 Karlsruhe, Deutschland)
Lauermann, M. (Institut für Photonik und Quantenelektronik (IPQ), Karlsruher Institut für Technologie, Kaiserstr. 12, 76131 Karlsruhe, Deutschland)

Inhalt:
In der industriellen Produktion werden heute mehrere Dosierverfahren zur Applikation von Fluiden unterschiedlicher Viskosität auf verschiedenen Oberflächen eingesetzt (Jet-Dispensen, Druckluft-Zeit-Dosieren, volumetrische Verfahren, etc.). Das Dosieren mit Dosiernadeln wird hierbei überwiegend eingesetzt. Die Qualität der Dosierung wird vor allem bestimmt vom Durchmesser der Dosiernadel und dem genauen Einhalten des Dosierabstands während des Dosiervor-gangs. Im vorliegenden Artikel wird eine hochpräzise Dosierplattform vorgestellt, die ermöglicht Linienstrukturen mit Strukturbreiten von unter 3 µm zu dosieren. Die Herstellung der hierfür eingesetzten Glaskapillarnadeln wird beschrieben, bestimmende Einflussfaktoren werden kurz beleuchtet und erste Ergebnisse präsentiert.