Herstellung großflächiger optischer Gitter mittels Röntgentiefenlithographie und anschließender Stapelung
Konferenz: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2011
10.10.2011 - 12.10.2011 in Darmstadt, Deutschland
Tagungsband: MikroSystemTechnik
Seiten: 4Sprache: DeutschTyp: PDF
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Autoren:
Börner, Martin; Hofmann, Andreas; Hummel, Benjamin; Mohr, Jürgen (Karlsruher Institut für Technologie (KIT) / Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruhe, Deutschland)
Lohrke, H.; Brunner, Robert (Fachhochschule Jena / SciTec, Jena, Deutschland)
Inhalt:
Im Rahmen der hier vorgestellten Arbeiten wird gezeigt, dass die Herstellung für die im Rahmen der Mikrosystemtechnik großer optischer Strukturen (optisch aktive Flächen im Quadratzentimeterbereich) mit Strukturdimensionen im Mikrometerbereich und Präzisionen im Nanometerbereich durch die Kombination von Mikrotechnik und geeigneter Aufbau- und Verbindungstechnik möglich ist. Es wird die Herstellung von Stufenspiegelarrays beschrieben, sowie die Ergebnisse des funktionalen Nachweises dargestellt. Die zugrunde gelegten geometrischen und optischen Randbedingungen werden aufgelistet und detailliert beschrieben.