Nanopartikel-Lithografie: eine kostengünstige Methode zur großflächigen Integration von Nanostrukturen in Mikrosystemen
Konferenz: Mikro-Nano-Integration - 2. GMM-Workshops
03.03.2010 - 04.03.2010 in Erfurt, Germany
Tagungsband: Mikro-Nano-Integration
Seiten: 2Sprache: DeutschTyp: PDF
Persönliche VDE-Mitglieder erhalten auf diesen Artikel 10% Rabatt
Autoren:
Burkhardt, Claus; Fuchsberger, Kai; Heusel, Gerhard; Schröppel, Birgit; Stelzle, Martin; Stett, Alfred (Naturwissenschaftliches und Medizinisches Institut an der Universität Tübingen, Markwiesenstraße 55, 72770 Reutlingen, Deutschland)
Inhalt:
Durch die Selbstorganisation von Nanopartikeln können Nanostrukturen auf unterschiedlichen Oberflächen erzeugt werden. Wir benutzen Polystyrol Beads um ein zweidimensionales Array von Partikeln auf einer Polyimid Oberfläche zu erzeugen. Diese Partikel dienen als Schattenmaske für eine Beschichtung. Nach Entfernung der Partikel entsteht eine poröse Ätzmaske. Auf diese Weise ist es gelungen in freitragenden Folien aus Polyimid Poren mit einem Durchmesser von 100 bis 300 nm und Tiefen von wenigen Mikrometern herzustellen. Dabei wurde eine Porendichte von 108/cm2 auf einer Fläche von 4x4cm bei einer Defektdichte von weniger als 10-5 erreicht.