Herstellung von vergrabenen Kanälen für einen Mikrogasinjektor

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In diesem Beitrag werden zwei Konzepte zur Herstellung von in kristallinem Silizium vergrabenen Mikrokanälen und deren Realisierung beschrieben. Bei den untersuchten Technologien handelt es sich einerseits um die Herstellung mit Hilfe eines isotropen Plasmaätzprozesses und anschließendem Hochtemperatur-Silizium-Fusionsbond-Prozess (SFB-Kanäle) und andererseits um eine Optimierung und Anpassung der in "de Boer, M. J.; Tjerkstra, R. W.; Berenschot, J. W.; Jansen, H. V.; Burger, G.J.; Gardeniers, J.G.E.; Elwenspoek, M.; van den Berg, A.; Micromachining of Buried Micro Channels in Silicon" beschriebenen Herstellungstechnologie (BCT-Kanäle) mittels anisotropen und isotropen Plasmaätzprozessen und anschließendem Verschließen mit LPCVD-Poly-Silizium.