Design for Manufacturing (DFM), eine neue Dimension in der physikalischen Verifikation

Inhalt:
Neue Prozesse mit stetig kleiner werdenden Geometrien stellen immer neue Anforderungen an Werkzeuge und Methoden im Bereich der physikalischen Verifikation. Hat es vor einigen Jahren noch ausgereicht, das fertige Design mit Hilfe von DRC (Design Rule Check) und LVS (Layout versus Schematic) Checks zuverlässig zu verifizieren, muss heute bei Prozessen mit Strukturen <100nm ein weitaus größerer Aufwand betrieben werden. Dabei gewinnt der Aspekt der „Herstellbarkeit mit möglichst hoher Ausbeute“ („Design for Manufacture“) an Bedeutung, da DRC und LVS korrekte Designs nicht mehr automatisch mit einer akzeptablen Ausbeute hergestellt werden können. Die Ausbeute wird dabei nicht nur von der Halbleiterfab und den verwendeten Prozessen bestimmt, sondern auch in zunehmendem Maße von der Art des Designs selber. Das hat zur Folge, dass der Designer direkten Einfluss auf die zu erwartende Ausbeute hat und er somit eine neue Generation von Methoden und Tools benötigt, die ihn bei dieser Tätigkeit unterstützen. Das vorliegende Paper stellt wichtige heute verfügbare DFM Methodiken und deren Einsatzgebiete näher vor. Exemplarisch werden dabei die Calibre Werkzeuge von Mentor Graphics näher vorgestellt.