Herstellung von Röntgenmasken in einem Zweistufenprozess mit dem Photoresist CAR 44

Conference: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2007
10/15/2007 - 10/17/2007 at Dresden

Proceedings: MikroSystemTechnik

Pages: 3Language: germanTyp: PDF

Personal VDE Members are entitled to a 10% discount on this title

Authors:
Schirmer, Matthias (Allresist GmbH, Strausberg, Deutschland)

Abstract:
In dieser Veröffentlichung wird die hochpräzise Herstellung von Röntgenmasken mit Hilfe des CAR 44 vorgestellt. In einem Zwei-Stufen-Prozess wird zuerst mittels UV-Lithographie eine 7-µm-dicke Resistmaske erzeugt. Die anschließende Goldgalvanik stellt die Röntgen-Master-Maske fertig. In einem zweiten Schritt wird diese Struktur mit der Master-Maske durch Synchrotron-Strahlung in eine 30-µm-dicke CAR-44-Schicht übertragen. Die Arbeitsmaske wird durch eine Goldgalvanik und das folgende Removing fertig gestellt.