Silizium-Mikrogitter als Komponente eines optischen Bewegungssensors

Abstract:
Der folgende Text beschreibt die Konzeptionierung und Fertigung von Mikrogittern aus Silizium. Diese sind Teil eines miniaturisierten optischen Bewegungssensors, der in der Lage ist, Verfahrwege von einigen Millimetern mit einer Auflösung im Nanometer-Bereich zu messen. Die Herstellung der Silizium-Gitter erfolgt in einem nasschemischen, anisotropen Ätzprozess. Die Besonderheit liegt hier in der exakten Einstellung der Waferoberfläche in Bezug zu den Kristallebenen, die nach dem Ätzprozess die Flanken des Gitters darstellen. Weitere Faktoren, die sich auf die Ausformung des Mikrogitters auswirken, ist das Design der fotolithografisch übertragenen Maskenstrukturen und die Parameter des Ätzprozesses. Abschließend wird die Eignung der gefertigten Siliziumgitter anhand erster experimenteller Versuche diskutiert und Maßnahmen zur Optimierung, die im Rahmen zukünftiger Arbeiten durchgeführt werden, vorgestellt.