Auf Waferebene integrierter Plasmareaktor für den Atmosphärendruckbereich
Conference: Mikrosystemtechnik Kongress 2005 - Mikrosystemtechnik Kongress 2005
10/10/2005 - 10/12/2005 at Munich, Germany
Proceedings: Mikrosystemtechnik Kongress 2005
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
Personal VDE Members are entitled to a 10% discount on this title
Authors:
Sichler, P.; Lucas, N.; Büttgenbach, S. (Institut für Mikrotechnik, TU Braunschweig, Alte Salzdahlumer Str. 203, 38124 Braunschweig, Deutschland)
Baars-Hibbe, L.; Schrader, C.; Gericke, K.-H. (Institut für Physikalische und Theoretische Chemie, TU Braunschweig, Hans-Sommer-Str. 10, 38106 Braunschweig, Deutschland)
Abstract:
Mikrostrukturierte Plasmaquellen in Form von Fingerelektroden wurden iterativ so optimiert, dass sie in hohen Druckbereichen bis zum Atmosphärendruck einsetzbar sind. Ausschlaggebend ist es, die pro Flächeneinheit erzeugte Wärmeleistung zu begrenzen. Die Fingerelektroden werden mit Mikrokanälen so auf einem Wafer integriert, dass sich eine Parallelschaltung von 16 Mikroplasmareaktoren ergibt. Der verwendete Fertigungsprozess wird dargestellt und die Funktionsfähigkeit bei Atmosphärendruck anhand der Aktivierung und Umsetzung eines CF4-haltigen Gases demonstriert.