Herstellung von Röntgenmasken in einem Zweistufenprozess mit dem Photoresist CAR 44
Conference: Technologien und Werkstoffe der Mikro- und Nanosystemtechnik - 1. GMM-Workshop
05/07/2007 - 05/08/2007 at Karlsruhe
Proceedings: Technologien und Werkstoffe der Mikro- und Nanosystemtechnik
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Schirmer, Matthias (Allresist GmbH, Strausberg, Deutschland)
Abstract:
In diesem Beitrag werden Ergebnisse des neu entwickelten Negativresist CAR 44 an dem Beispiel einer zweistufigen Röntgenmasken-Herstellung vorgestellt. Der CAR 44 verfügt über ähnliche Eigenschaften wie der SU-8, besitzt jedoch darüber hinaus für viele Anwendungen bedeutende Vorteile. Hervorzuheben ist vor allem die leichte Entfernbarkeit der vernetzten Strukturen. Damit eröffnen sich neue Möglichkeiten in der Mikrosystemtechnik.