MEMS-Testeinrichtung für die Wafer-Level-Charakterisierung von integrierten Kohlenstoffnanoröhren
Conference: Mikrosystemtechnik 2013 - Von Bauelementen zu Systemen
10/14/2013 - 10/16/2013 at Aachen, Deutschland
Proceedings: Mikrosystemtechnik 2013
Pages: 3Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Shaporin, A.; Voigt, S.; Bonitz, J.; Hermann, S.; Hartmann, S.; Kaufmann, C.; Mehner, J.; Schulz, S. E.; Wunderle, B. (Technische Universität Chemnitz, 09126 Chemnitz, Deutschland)
Gessner, T. (Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme, 09126 Chemnitz, Deutschland)
Abstract:
Eine MEMS-Testeinrichtung für die Wafer-Level-Charakterisierung von integrierten Kohlenstoffnanoröhren wurde entworfen, gefertigt und charakterisiert. Durch das Zusammenspiel eines elektrostatischen Aktors, eines kapazitiven Sensors sowie eines Vergrößerungszeigers ist es möglich, weggesteuerte Zugversuche an Nanoröhren aufzunehmen. Der Nanozugversuch hat einen Wegmessbereich von 500 nm bei einer Auflösung von ca. 1 nm.