Bestimmung der NETD von Fern-Infrarot Imagern auf Wafer-Level unter Umgebungsdruck in der Serienproduktion
Conference: MikroSystemTechnik - KONGRESS 2011
10/10/2011 - 10/12/2011 at Darmstadt, Deutschland
Proceedings: MikroSystemTechnik
Pages: 4Language: germanTyp: PDF
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Authors:
Utz, A.; Gendrisch, L.; Brögger, D.; Weiler, D.; Vogt, H. (Fraunhofer Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme (IMS), Finkenstraße 61, 47057 Duisburg, Deutschland)
Abstract:
Als erstes Unternehmen in Deutschland und eines von wenigen europaweit entwickelt und produziert das Fraunhofer IMS auf Mikrobolometern basierende ungekühlte infrarot focal plane arrays (IRFPAs). Diese IRFPAs nutzen den Fern-Infrarot Wellenlängenbereich von 8 bis 14 µm zur Bilderzeugung. Neben den neuen Herausforderungen an den Produktionsprozess solcher Mikro-Elektro-Mechanischen Systeme (MEMS) ergeben sich gleichzeitig neue Anforderungen an das die Produktion begleitende Testkonzept. Das Testkonzept des Fraunhofer IMS wird in diesem Artikel behandelt.