Einsatzmöglichkeiten mikrooptischer Komponenten für Mask Aligner Belichtungssysteme

Abstract:
Mikrooptische Komponenten sind Schlüsselelemente für die Beleuchtung von High-End Wafersteppern und ermöglichen ein präzises Einstellen des Beleuchtungslichtes um Aberrationen und Beugungseffekte auf ein Minimum zu reduzieren. Auch in Mask Alignern lässt sich Mikrooptik zur Lithografieverbesserung erfolgreich einsetzen. Ein neues Beleuchtungssystem, die sogenannte MO Exposure Optics, verbessert Uniformität und Telezentrie des Lichtes, und ermöglicht es auch im Mask Aligner das Winkelspektrum sehr präzise einzustellen. Mit MO Exposure Optics können nun in Mask Alignern Lithografieverbesserungsmethoden wie Optical-Proximity-Correction (OPC) und Source-Mask-Optimization (SMO) angewendet werden. Neuartige, sogenannte "Advanced Mask Aligner Lithographie (AMALITH)" Methoden, wie Halbton-, Graulevel-, Pinhole- und Talbot-Lithografie erweitern den Einsatzbereich von Mask Alignern.